国内刊号:11-1804/O6
国际刊号:0441-3776
发布日期:
作者:吴嘉豪,张诗洋,蔡铭威,王知,胡俊祺,刘屹东,闵永刚
关键词:负性光敏聚酰亚胺,绝缘材料,光刻胶,
基金:国家自然科学基金联合基金项目(U20A20340)、国家重点研发计划项目(2020YFB0408100)、广东引进创新创业团队计划项目(2016ZT06C412)、佛山市科技创新团队项目(1920001000108)和广州市红棉计划项目(HMJH-2020-0012)资助
芳香族聚酰亚胺具有优异的绝缘性、热稳定性、介电性能、机械性能以及化学稳定性,可在微电子工业中用作绝缘和保护材料。负性光敏聚酰亚胺具有芳香族聚酰亚胺的优点,同时也具有感光性,使得微电子加工过程中减少对光刻胶的依赖,简化图案形成的工艺,有力的促进了生产效率。本文综述了负性光敏聚酰亚胺的发展,重点介绍聚酰亚胺光刻胶体系的原理及近期研究进展,对负性光敏聚酰亚胺的发展给予展望。
来源:2023年第8期
《化学通报》期刊编辑部